Notebookcheck Logo

SK Hynix monterar första High-NA EUV-litografiverktyget för massproduktion vid M16-fabriken

På bilden: SK Hynix QLC NAND flashminne (Bildkälla: SK Hynix)
På bilden: SK Hynix QLC NAND flashminne (Bildkälla: SK Hynix)
SK Hynix har installerat ASML:s High-NA EUV-system i sin M16-fabrik i Sydkorea, det första verktyget av detta slag som monterats för massproduktion. Genombrottet möjliggör mindre funktioner, högre densitet för DRAM och stärker företagets försprång gentemot Samsung och Micron inom nästa generations minne.

SK Hynix meddelade att företaget har monterat branschens första High-NA EUV litografisystem för massproduktion vid sin M16 fabrik i Icheon, Sydkorea. Chefer från SK Hynix FoU och tillverkning, samt ASML:s kundansvarige för SK Hynix, firade milstolpen vid ett evenemang på plats. Målet med detta system är att påskynda utvecklingen och leveransen av nästa generations DRAM, samtidigt som man stärker det inhemska ledarskapet inom AI-minnen och förbättrar stabiliteten i leveranskedjan genom nära partnersamarbete. Denna milstolpe markerar SK Hynix försprång framför andra konkurrenter som fortfarande förlitar sig på Low-NA EUV.

ASML TWINSCAN EXE:5200B-systemet levererar cirka 40 procent högre NA (numerisk apertur) än sin Low-NA-motsvarighet, vilket möjliggör funktioner som är 1,7 gånger mindre med cirka 2,9 gånger högre transistordensitet i en enda exponering. Maskinen kan uppnå en upplösning på hela 8 nm, vilket är en betydande förbättring jämfört med den nuvarande upplösningen på 13 nm som uppnås med Low-NA-system. ASML beskriver milstolpen som "att öppna ett nytt kapitel".

Inledningsvis planerar SK Hynix att snabbt prototypa nya DRAM-strukturer, inklusive kondensatorgravar, bitlinjer och ordlinjer, för att påskynda nodutvecklingen. Företaget planerar också att förenkla befintliga EUV-processflöden för att förbättra kostnadskonkurrenskraften när utvecklingen mognar.

Framtida DRAM förväntas övergå till High-NA EUV (runt 2030-talet); därför avaktiverar detta verktyg den vägen tidigt. SK Hynix har utökat sitt EUV-fotavtryck till DRAM sedan 2021, och denna milstolpe markerar nästa steg för nästa generations DRAM-produktion.

Att vara ett av de första företagen som monterar High-NA EUV-system på en massproduktionsanläggning placerar SK Hynix före Micron och Samsung, vilket ger företaget en konkurrensfördel på marknaden. ASML har tidigare byggt förproduktionssystem för hög-NA (NXE:5000-serien) vid Intels D1X-fabrik, men SK Hynix installation markerar den första monteringen av det nya EXE:5200B-systemet vid en kundfabrik som är anpassad för volymproduktion.

Källa(n)

SK Hynix (på engelska)

Please share our article, every link counts!
Mail Logo
> Bärbara datorer, laptops - tester och nyheter > Nyheter > Nyhetsarkiv > Nyhetsarkiv 2025 09 > SK Hynix monterar första High-NA EUV-litografiverktyget för massproduktion vid M16-fabriken
Nathan Ali, 2025-09- 4 (Update: 2025-09- 4)